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據(jù)雅克科技公告稱，其子公司斯洋國際有限公司與LgChemLtd（簡稱LG化學）簽署了《業(yè)務轉讓協(xié)議》，以580億韓
我國光刻膠應用結構較為單一，勞動密集型的 PCB 光刻膠應用占 94%，產(chǎn)品以低端為主，2011 年來均價持續(xù)走低。
中國報告網(wǎng)是觀研天下集團旗下打造的業(yè)內(nèi)資深行業(yè)分析報告、市場深度調(diào)研報告提供商與綜合行業(yè)信息門戶。《2019年中國光刻膠市場分析報告-市場深度分析與發(fā)展前景預測》涵蓋行業(yè)最新數(shù)據(jù)，市場熱點，政策規(guī)劃，競爭情報，市場前景預測，投資策略等內(nèi)容。更輔以大量直觀的圖表幫助本行業(yè)企業(yè)準確把握行業(yè)發(fā)展態(tài)勢、市場商機動向、正確制定企業(yè)競爭戰(zhàn)略和投資策略。
隨全球光電產(chǎn)業(yè)、消費電子產(chǎn)業(yè)、半導體產(chǎn)業(yè)逐漸向我國轉移，光刻膠下游產(chǎn)業(yè)PCB、LCD、半導體等產(chǎn)業(yè)迅速發(fā)展，國內(nèi)對光刻膠的需求猛增。我國光刻膠行業(yè)發(fā)展起步較晚，生產(chǎn)能力主要集中于 PCB 光刻膠、TN/STN-LCD 光刻膠等中低端產(chǎn)品，而 TFT-LCD、半導體光刻膠等高端產(chǎn)品仍需大量進口。
【報告大綱】 第一章光刻膠相關概述 第一節(jié)光刻膠基礎闡述 一、光刻膠特性 二、光刻膠成份 第二節(jié)光刻膠類型劃分 一、光聚合型 二、光分解型
光刻膠（又稱光致抗蝕劑），是指通過紫外光、準分子激光、電子束、離子束、x射線等光源的照射或輻射，其溶解度發(fā)
光刻膠是利用光化學反應經(jīng)曝光、顯影、刻蝕等工藝將所需要的微細圖形從掩膜板轉移到待加工基片上的圖形轉移介質(zhì)，
從國內(nèi)市場看，光刻膠行業(yè)內(nèi)的企業(yè)數(shù)量較#，2017年我國行業(yè)企業(yè)數(shù)量共有##家，其中規(guī)模以上企業(yè)占
從國內(nèi)市場看，光刻膠行業(yè)內(nèi)的企業(yè)數(shù)量較#，2017年我國行業(yè)企業(yè)數(shù)量共有##家，其中規(guī)
光刻膠是利用光化學反應經(jīng)曝光、顯影、刻蝕等工藝將所需要的微細圖形從掩膜板轉移到待加工基片上的圖形轉移介質(zhì)，
光刻膠又稱光致抗蝕劑，由感光樹脂、增感劑（見光譜增感染料）和溶劑三種主要成分組成的對光敏感的混合液體。感光樹脂經(jīng)光照后，在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化反應，使得這種材料的物理性能，特別是溶解性、親合性等發(fā)生明顯變化。
光刻膠只占半導體制造前工序材料整個市場價值約4%，但它是代表整個半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展水平的關鍵核心材料，具有指標性功能。從2011 到2015 年，中國市場需求以每年以15%的復合增長率快速增長著。鑒于中國大力扶持半導體產(chǎn)業(yè)國產(chǎn)化，上馬數(shù)條12 寸晶圓廠，6 寸8寸晶圓廠更是數(shù)不勝數(shù)，對光刻膠市場需求是越來越大。
光刻膠是由光引發(fā)劑、樹脂以及各類添加劑等化學品組成的對光敏感的感光性材料。光刻膠是電子化學品中技 術壁壘最高的材料，也是半導體集成電路生產(chǎn)制造的核心材料，光刻工藝的成本約為整個芯片制造工藝的 35%，并 且耗費時間約占整個芯片工藝的 40%-60%。
